氧化物和氮化物四前驱源ALD薄膜设备原子层沉积

Name: 氧化物和氮化物四前驱源ALD薄膜设备原子层沉积
Brand: Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.
SKU: 1600520486832
Price: 50000.00 USD
Availability: InStock

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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. 7 yrs

重要属性

行业属性

涂层工艺

真空镀膜

电压

220V

功率(马力)

3500

其他属性

类型

原子层沉积

保修期

1年

重量 (KG)

500

加工材料

钢

视频出厂验货

可提供

机械测试报告

可提供

核心组件

PLC

原产地

Henan, China

品牌

尺寸(长×宽×高)

定制

核心卖点

价格富有竞争力

机器类型

涂装设备

产品名称

原子层沉积

关键词

原子层沉积

样品尺寸

156x156毫米

基板加热温度

400 ℃

前体来源

ALD阀加热温度

RT-150 ℃

电源

220V/110V

真空泵

1.5升/秒

控制硬件

PLC

前驱体管道加热温度

RT-150 ℃

包装和发货信息

Packaging Details

wooden case

Port

Qingdao, Shanghai

供应能力

100 套 per Month

展开

交货时间

供应商的产品说明

1 - 9 sets

¥692,417.00

>= 10 sets

¥364,430.00

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